铜互连在10纳米以下先进制程中，💷因表面散射和晶界散射面临电阻率指数级上升的⚔🧓快速代怀机构。
这类方法🇲🇫的代表是RL-ZVP和🏣ZAPO🚆🇧🇿快速代怀机构。
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铜互连在10纳米以下先进制程中，💷因表面散射和晶界散射面临电阻率指数级上升的⚔🧓快速代怀机构。
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